Pulsed metalorganic chemical vapor deposition of iron oxides and bismuth-iron oxides - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films and Other Emerging Dielectrics Année : 2005
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00290817 , version 1 (26-06-2008)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00290817 , version 1

Citer

J. Thery, T. Baron, C. Dubourdieu, C. Ternon, B. Pelissier, et al.. Pulsed metalorganic chemical vapor deposition of iron oxides and bismuth-iron oxides. Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films and Other Emerging Dielectrics, 2005, 2005-01, pp.498-509. ⟨hal-00290817⟩
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