Poster De Conférence
Année : 2007
Nathalie Bonneval : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00275109
Soumis le : mardi 22 avril 2008-14:59:22
Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:12
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00275109 , version 1
Citer
W. Puyrenier, L. Broussous, D. Rebiscoul, V. Rouessac, A. Ayral. Porosity and structure evolution of a SiOCH low k material during post-etch cleaning process. 2007 MRS Spring Meeting, Apr 2007, San Franscico, United States. 2007. ⟨hal-00275109⟩
Collections
43
Consultations
0
Téléchargements