Selective etching of Pt with respect to PtSi using a sacrificial low temperature germanidation process
Domaines
| Origine | Fichiers produits par l'(les) auteur(s) |
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https://hal.science/hal-00255853
Soumis le : mercredi 18 septembre 2024-15:44:25
Dernière modification le : lundi 23 mars 2026-09:10:02