Selective etching of Pt with respect to PtSi using a sacrificial low temperature germanidation process - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Applied Physics Letters Année : 2007

Selective etching of Pt with respect to PtSi using a sacrificial low temperature germanidation process

N. Breil
  • Fonction : Auteur
A. Halimaoui
  • Fonction : Auteur
T. Skotnicki
  • Fonction : Auteur
G. Larrieu
  • Fonction : Auteur
A. Łaszcz
  • Fonction : Auteur
J. Ratajczak
  • Fonction : Auteur
G. Rolland
  • Fonction : Auteur
A. Pouydebasque
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00255853 , version 1 (14-02-2008)

Identifiants

Citer

N. Breil, A. Halimaoui, T. Skotnicki, Emmanuel Dubois, G. Larrieu, et al.. Selective etching of Pt with respect to PtSi using a sacrificial low temperature germanidation process. Applied Physics Letters, 2007, 91, pp.232112-1-3. ⟨10.1063/1.2821143⟩. ⟨hal-00255853⟩
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