Laser damage resistance of Hafnia thin films deposited by Electron Beam Deposition, Reactive Low Voltage Ion Plating and Dual Ion Beam Sputtering - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Applied optics Année : 2008

Laser damage resistance of Hafnia thin films deposited by Electron Beam Deposition, Reactive Low Voltage Ion Plating and Dual Ion Beam Sputtering

Laurent Gallais
Institut FRESNEL
CV
Jeremie Capoulade
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 832177
Institut FRESNEL
Mireille Commandre
  • Fonction : Auteur
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Institut FRESNEL
Jean-Yves Natoli
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Institut FRESNEL
Michel Cathelinaud
Institut FRESNEL
Cihan Koc
  • Fonction : Auteur
Michel Lequime
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Institut FRESNEL

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Soumis le : mercredi 6 février 2008-14:33:21

Dernière modification le : mardi 4 juin 2024-11:06:03

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Dates et versions

hal-00242619 , version 1 (06-02-2008)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00242619 , version 1

Citer

Laurent Gallais, Jeremie Capoulade, Mireille Commandre, Jean-Yves Natoli, Michel Cathelinaud, et al.. Laser damage resistance of Hafnia thin films deposited by Electron Beam Deposition, Reactive Low Voltage Ion Plating and Dual Ion Beam Sputtering. Applied optics, 2008, 47 (13), pp.C107-C113. ⟨hal-00242619⟩

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