"Effect of plasma treatments on a porous low-k materials. Study of pore sealing"

W. Puyrenier; V. Rouessac; L. Broussous; D. Rebiscoul; A. Ayral

doi:10.1016/j.micromeso.2007.02.009

Article Dans Une Revue Microporous and Mesoporous Materials Année : 2007

"Effect of plasma treatments on a porous low-k materials. Study of pore sealing"

, (1) , , , (1)

1

W. Puyrenier

Fonction : Auteur

V. Rouessac

Fonction : Auteur
PersonId : 21745
IdHAL : v-rouessac
ORCID : 0000-0002-5916-5948
IdRef : 124822010

Institut Européen des membranes

CV

L. Broussous

Fonction : Auteur

D. Rebiscoul

Fonction : Auteur
PersonId : 172429
IdHAL : diane-rebiscoul
ORCID : 0000-0001-6604-3167
IdRef : 083859292

A. Ayral

Fonction : Auteur

Institut Européen des membranes

Domaines

Chimie

Nathalie Bonneval : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00204167

Soumis le : lundi 14 janvier 2008-09:32:57

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:12

Dates et versions

hal-00204167 , version 1 (14-01-2008)

Identifiants

HAL Id : hal-00204167 , version 1
DOI : 10.1016/j.micromeso.2007.02.009

Citer

W. Puyrenier, V. Rouessac, L. Broussous, D. Rebiscoul, A. Ayral. "Effect of plasma treatments on a porous low-k materials. Study of pore sealing". Microporous and Mesoporous Materials, 2007, 106, pp.40-48. ⟨10.1016/j.micromeso.2007.02.009⟩. ⟨hal-00204167⟩

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