Factors governing the reactivity at and behind the triple line in liquid metal-X(X=Ti, Zr)/AIN system - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2007

Factors governing the reactivity at and behind the triple line in liquid metal-X(X=Ti, Zr)/AIN system

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Matériaux Génie des procédés

Yannick Champion  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00195820

Soumis le : mardi 11 décembre 2007-15:01:05

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:13

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00195820 , version 1 (11-12-2007)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00195820 , version 1

Citer

A. Koltsov, F. Hodaj, N. Eustathopoulos. Factors governing the reactivity at and behind the triple line in liquid metal-X(X=Ti, Zr)/AIN system. High Temperature Capillarity HTC2007, Apr 2007, Alicante, Spain. ⟨hal-00195820⟩

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