Controlled growth of aluminum oxide thin films on hydrogen terminated Si(001) surface - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Journal of Crystal Growth Année : 2007

Controlled growth of aluminum oxide thin films on hydrogen terminated Si(001) surface

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https://hal.science/hal-00175319

Soumis le : jeudi 27 septembre 2007-16:07:54

Dernière modification le : mercredi 31 janvier 2024-16:47:56

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00175319 , version 1 (27-09-2007)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00175319 , version 1

Citer

H. Oughaddou, C. Leandri, V.K. Lazarov, A. Kohn, K. Nguyen, et al.. Controlled growth of aluminum oxide thin films on hydrogen terminated Si(001) surface. Journal of Crystal Growth, 2007, 305, pp.26-29. ⟨hal-00175319⟩

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