Physico-chemical properties of V2O5 thin films obtained by Atomic Layer Deposition - Archive ouverte HAL
Chapitre D'ouvrage Année : 2003

Physico-chemical properties of V2O5 thin films obtained by Atomic Layer Deposition

Arnaud Mantoux
Jean Claude Badot
  • Fonction : Auteur
Jean Pierre Pereira-Ramos
Rita Baddour-Hadjean
CV
Henri Groult
Liquides Ioniques et Interfaces Chargées
Noël Baffier
  • Fonction : Auteur
Eric Balnois
  • Fonction : Auteur
Daniel Lincot
  • Fonction : Auteur
Olivier Dubrunfaut
CV
Didier Devilliers
Liquides Ioniques et Interfaces Chargées

Domaines

Matériaux

Didier Devilliers  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00163566

Soumis le : mardi 17 juillet 2007-16:24:34

Dernière modification le : jeudi 4 juillet 2024-13:14:05

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00163566 , version 1 (17-07-2007)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00163566 , version 1

Citer

Arnaud Mantoux, Jean Claude Badot, Jean Pierre Pereira-Ramos, Rita Baddour-Hadjean, Henri Groult, et al.. Physico-chemical properties of V2O5 thin films obtained by Atomic Layer Deposition. Proceedings of the 203rd Meeting of the Electrochemical Society-EUROCVD, Electrochemical Society, pp.603, 2003, Vol. 2003-20. ⟨hal-00163566⟩

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