Physico-chemical properties of V2O5 thin films obtained by Atomic Layer Deposition - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Chapitre D'ouvrage Année : 2003

Physico-chemical properties of V2O5 thin films obtained by Atomic Layer Deposition

Arnaud Mantoux
Jean Claude Badot
  • Fonction : Auteur
Jean Pierre Pereira-Ramos
Rita Baddour-Hadjean
Noël Baffier
  • Fonction : Auteur
Eric Balnois
  • Fonction : Auteur
Daniel Lincot
  • Fonction : Auteur
Olivier Dubrunfaut

Domaines

Matériaux
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00163566 , version 1 (17-07-2007)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00163566 , version 1

Citer

Arnaud Mantoux, Jean Claude Badot, Jean Pierre Pereira-Ramos, Rita Baddour-Hadjean, Henri Groult, et al.. Physico-chemical properties of V2O5 thin films obtained by Atomic Layer Deposition. Proceedings of the 203rd Meeting of the Electrochemical Society-EUROCVD, Electrochemical Society, pp.603, 2003, Vol. 2003-20. ⟨hal-00163566⟩
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