Comparison between TiAl and TiAlNiAu ohmic contacts to n-type GaN - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Journal of Electronic Materials Année : 2000

Comparison between TiAl and TiAlNiAu ohmic contacts to n-type GaN

B. Boudart
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
S. Trassaert
  • Fonction : Auteur
X. Wallart
J.C. Pesant
  • Fonction : Auteur
O. Yaradou
  • Fonction : Auteur
D. Theron
Y. Crosnier
  • Fonction : Auteur
H. Lahreche
  • Fonction : Auteur
F. Omnes
  • Fonction : Auteur

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https://hal.science/hal-00158984

Soumis le : lundi 2 juillet 2007-10:28:08

Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00158984 , version 1 (02-07-2007)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00158984 , version 1

Citer

B. Boudart, S. Trassaert, X. Wallart, J.C. Pesant, O. Yaradou, et al.. Comparison between TiAl and TiAlNiAu ohmic contacts to n-type GaN. Journal of Electronic Materials, 2000, 29, pp.603-606. ⟨hal-00158984⟩

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