Novel 3D integration process for highly scalable Nano-Beam stacked-channels GAA (NBG) CMOSFETs with HfO2/TiN gate stack
T. Ernst
,
C. Dupre
,
C. Isheden
,
E. Bernard
,
R. Ritzenthaler
,
V. Maffini-Alvaro
,
J.C Barbé
,
A. Toffoli
,
C. Vizioz
,
S. Borel
,
F. Andrieu
,
F. de Crécy
,
V. Delaye
,
D. Lafond
,
G. Rabille
,
J.M Hartmann
,
M. Rivoire
,
B. Guillaumot
,
A. Suhm
,
P. Rivallin
,
O. Faynot
,
G. Ghibaudo
(1)
,
S. Deleonibus
T. Ernst
- Fonction : Auteur
C. Dupre
- Fonction : Auteur
C. Isheden
- Fonction : Auteur
E. Bernard
- Fonction : Auteur
R. Ritzenthaler
- Fonction : Auteur
V. Maffini-Alvaro
- Fonction : Auteur
J.C Barbé
- Fonction : Auteur
A. Toffoli
- Fonction : Auteur
C. Vizioz
- Fonction : Auteur
S. Borel
- Fonction : Auteur
F. Andrieu
- Fonction : Auteur
F. de Crécy
- Fonction : Auteur
V. Delaye
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D. Lafond
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G. Rabille
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J.M Hartmann
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M. Rivoire
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B. Guillaumot
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A. Suhm
- Fonction : Auteur
P. Rivallin
- Fonction : Auteur
O. Faynot
- Fonction : Auteur
G. Ghibaudo
- Fonction : Auteur
- PersonId : 170596
- IdHAL : gerard-ghibaudo
- ORCID : 0000-0001-9901-0679
- IdRef : 069253099
S. Deleonibus
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