Communication Dans Un Congrès Année : 2006

Novel 3D integration process for highly scalable Nano-Beam stacked-channels GAA (NBG) CMOSFETs with HfO2/TiN gate stack

T. Ernst
  • Fonction : Auteur
C. Dupre
  • Fonction : Auteur
C. Isheden
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E. Bernard
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R. Ritzenthaler
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V. Maffini-Alvaro
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J.C Barbé
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A. Toffoli
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C. Vizioz
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S. Borel
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F. Andrieu
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F. de Crécy
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V. Delaye
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D. Lafond
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G. Rabille
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J.M Hartmann
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M. Rivoire
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B. Guillaumot
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A. Suhm
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P. Rivallin
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O. Faynot
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S. Deleonibus
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Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00147138 , version 1 (16-05-2007)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00147138 , version 1

Citer

T. Ernst, C. Dupre, C. Isheden, E. Bernard, R. Ritzenthaler, et al.. Novel 3D integration process for highly scalable Nano-Beam stacked-channels GAA (NBG) CMOSFETs with HfO2/TiN gate stack. IEDM 2006, 2006, San Francisco, United States. pp.XX. ⟨hal-00147138⟩

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