Physics-based process simulation of ultrashallow junctions - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2003

Physics-based process simulation of ultrashallow junctions

N.E.B. Cowern
  • Fonction : Auteur
B. Colombeau
  • Fonction : Auteur
R. Duffy
  • Fonction : Auteur
V. Venezia
  • Fonction : Auteur
C. Dachs
  • Fonction : Auteur
R. Lindsay
  • Fonction : Auteur
Fuccio Cristiano
CV
E. Lampin
  • Fonction : Auteur
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
Alain Claverie

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https://hal.science/hal-00146422

Soumis le : mardi 15 mai 2007-08:47:21

Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00146422 , version 1 (15-05-2007)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00146422 , version 1

Citer

N.E.B. Cowern, B. Colombeau, R. Duffy, V. Venezia, C. Dachs, et al.. Physics-based process simulation of ultrashallow junctions. Ultra-Shallow Junctions Worshop, 2003, Santa Cruz, CA, United States. ⟨hal-00146422⟩

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