Diffusion and activation of dopants in silicon and advanced silicon-based materials - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Physica Scripta Année : 2006

Diffusion and activation of dopants in silicon and advanced silicon-based materials

P. Pichler
  • Fonction : Auteur
C.J. Ortiz
  • Fonction : Auteur
B. Colombeau
  • Fonction : Auteur
N.E.B. Cowern
  • Fonction : Auteur
E. Lampin
  • Fonction : Auteur
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
S. Uppal
  • Fonction : Auteur
M.S.A. Karunaratne
  • Fonction : Auteur
J.M. Bonar
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A. Willoughby
  • Fonction : Auteur
Alain Claverie
Fuccio Cristiano
CV
W. Lerch
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S. Paul
  • Fonction : Auteur

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https://hal.science/hal-00138673

Soumis le : mardi 27 mars 2007-10:40:02

Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18

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Dates et versions

hal-00138673 , version 1 (27-03-2007)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00138673 , version 1

Citer

P. Pichler, C.J. Ortiz, B. Colombeau, N.E.B. Cowern, E. Lampin, et al.. Diffusion and activation of dopants in silicon and advanced silicon-based materials. Physica Scripta, 2006, T126, pp.89-96. ⟨hal-00138673⟩

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