An optimal high contrast e-beam lithography process for the patterning of dense fin networks - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Materials Science and Engineering: C Année : 2006

An optimal high contrast e-beam lithography process for the patterning of dense fin networks

J. Penaud
  • Fonction : Auteur
Emmanuel Dubois
M. Francois
  • Fonction : Auteur
M. Muller
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00138653 , version 1 (27-03-2007)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00138653 , version 1

Citer

F. Fruleux, J. Penaud, Emmanuel Dubois, M. Francois, M. Muller. An optimal high contrast e-beam lithography process for the patterning of dense fin networks. Materials Science and Engineering: C, 2006, 26, pp.893-897. ⟨hal-00138653⟩
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