Article Dans Une Revue
Materials Science and Engineering: C
Année : 2006
Collection IEMN : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00138653
Soumis le : mardi 27 mars 2007-10:22:57
Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00138653 , version 1
Citer
F. Fruleux, J. Penaud, Emmanuel Dubois, M. Francois, M. Muller. An optimal high contrast e-beam lithography process for the patterning of dense fin networks. Materials Science and Engineering: C, 2006, 26, pp.893-897. ⟨hal-00138653⟩
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