Interfacial layer in the high-k dielectrics : characterization and suppression - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2005

Interfacial layer in the high-k dielectrics : characterization and suppression

G. Larrieu
  • Fonction : Auteur
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
M. Tao
  • Fonction : Auteur
N. Moumen
  • Fonction : Auteur
E. Moldonado
  • Fonction : Auteur
W.P. Kirk
  • Fonction : Auteur
G. Song
  • Fonction : Auteur
W. Bai
  • Fonction : Auteur
D.L. Kwong
  • Fonction : Auteur

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https://hal.science/hal-00138406

Soumis le : lundi 26 mars 2007-11:18:45

Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00138406 , version 1 (26-03-2007)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00138406 , version 1

Citer

G. Larrieu, M. Tao, N. Moumen, E. Moldonado, W.P. Kirk, et al.. Interfacial layer in the high-k dielectrics : characterization and suppression. 2005, pp.abstract 543. ⟨hal-00138406⟩

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