"Characterization of the impact of plasma treatments and wet cleaning on a porous low k material" - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Microelectronic Engineering Année : 2006

"Characterization of the impact of plasma treatments and wet cleaning on a porous low k material"

W. Puyrenier
  • Fonction : Auteur
V. Rouessac
L. Broussous
  • Fonction : Auteur
D. Rebiscoul

Domaines

Chimie

Dates et versions

hal-00128556 , version 1 (01-02-2007)

Identifiants

Citer

W. Puyrenier, V. Rouessac, L. Broussous, D. Rebiscoul, A. Ayral. "Characterization of the impact of plasma treatments and wet cleaning on a porous low k material". Microelectronic Engineering, 2006, 83 (11-12), pp.2314-2318. ⟨10.1016/j.mee.2006.10.024⟩. ⟨hal-00128556⟩
49 Consultations
0 Téléchargements

Altmetric

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More