Tensile stress determination in silicon nitride membrane by AFM characterization - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2005

Tensile stress determination in silicon nitride membrane by AFM characterization

A.S. Rollier
  • Fonction : Auteur
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
Bernard Legrand
CV
D. Deresmes
CV
M. Lagouge
  • Fonction : Auteur
D. Collard
  • Fonction : Auteur
L. Buchaillot

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https://hal.science/hal-00125660

Soumis le : lundi 22 janvier 2007-11:31:08

Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00125660 , version 1 (22-01-2007)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00125660 , version 1

Citer

A.S. Rollier, Bernard Legrand, D. Deresmes, M. Lagouge, D. Collard, et al.. Tensile stress determination in silicon nitride membrane by AFM characterization. 2005, pp.828-831. ⟨hal-00125660⟩

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