Influence of the film thickness on residual stresses, crystallographic and mechanical properties of magneton-sputtered tungsten coatings on a ductile substrate - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2001

Influence of the film thickness on residual stresses, crystallographic and mechanical properties of magneton-sputtered tungsten coatings on a ductile substrate

T. Ganne
  • Fonction : Auteur
Laboratoire de Mécanique des Solides
Jérôme Crépin
Laboratoire de Mécanique des Solides
G. Farges
  • Fonction : Auteur
R. M. Pradeilles-Duval
  • Fonction : Auteur
Laboratoire de Mécanique des Solides
A. Zaoui
  • Fonction : Auteur
Laboratoire de Mécanique des Solides

Résumé

No abstract provided

Domaines

Mécanique des solides [physics.class-ph]

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https://hal.science/hal-00116221

Soumis le : vendredi 24 novembre 2006-18:22:07

Dernière modification le : mardi 27 août 2024-12:40:05

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00116221 , version 1 (24-11-2006)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00116221 , version 1

Citer

T. Ganne, Jérôme Crépin, G. Farges, R. M. Pradeilles-Duval, A. Zaoui. Influence of the film thickness on residual stresses, crystallographic and mechanical properties of magneton-sputtered tungsten coatings on a ductile substrate. 2001. ⟨hal-00116221⟩

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