Oral : "Mechanical properties of mesoporous silica thin films : effect of the surfactant removal processes" - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2005

Oral : "Mechanical properties of mesoporous silica thin films : effect of the surfactant removal processes"

N. Chemin
  • Fonction : Auteur
M. Klotz
  • Fonction : Auteur
V. Rouessac
E. Barthe
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00083088 , version 1 (29-06-2006)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00083088 , version 1

Citer

N. Chemin, M. Klotz, V. Rouessac, A. Ayral, E. Barthe. Oral : "Mechanical properties of mesoporous silica thin films : effect of the surfactant removal processes". E-MRS (Material Research Society) - May 31-June 3rd, 2005, 2005, Strasbourg, France. ⟨hal-00083088⟩
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