Communication Dans Un Congrès
Année : 2005
Nathalie Bonneval : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00083088
Soumis le : jeudi 29 juin 2006-14:29:28
Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:12
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00083088 , version 1
Citer
N. Chemin, M. Klotz, V. Rouessac, A. Ayral, E. Barthe. Oral : "Mechanical properties of mesoporous silica thin films : effect of the surfactant removal processes". E-MRS (Material Research Society) - May 31-June 3rd, 2005, 2005, Strasbourg, France. ⟨hal-00083088⟩
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