Effect of polishing process on silica surface laser-induced damage threshold at 355nm - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Optics Communications Année : 2004

Effect of polishing process on silica surface laser-induced damage threshold at 355nm

Jean-Yves Natoli
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 832180
Mireille Commandre
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 832173
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00082114 , version 1 (27-06-2006)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00082114 , version 1

Citer

Bertrand Bertussi, Jean-Yves Natoli, Mireille Commandre. Effect of polishing process on silica surface laser-induced damage threshold at 355nm. Optics Communications, 2004, 242, pp.227. ⟨hal-00082114⟩
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