"Precursor chemistry for ULK CVD"

V. Rouessac; L. Favennec; B. Remiat; V. Jousseaume; G. Passemard; J. Durand

doi:10.1016/j.mee.2005.07.071

Article Dans Une Revue Microelectronic Engineering Année : 2005

"Precursor chemistry for ULK CVD"

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1

V. Rouessac

Fonction : Auteur
PersonId : 21745
IdHAL : v-rouessac
ORCID : 0000-0002-5916-5948
IdRef : 124822010

Institut Européen des membranes

CV

L. Favennec

Fonction : Auteur

B. Remiat

Fonction : Auteur

V. Jousseaume

Fonction : Auteur

G. Passemard

Fonction : Auteur

J. Durand

Fonction : Auteur
PersonId : 1104751

Institut Européen des membranes

Domaines

Chimie

Nathalie Bonneval : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00080019

Soumis le : mercredi 14 juin 2006-13:52:48

Dernière modification le : lundi 17 juin 2024-09:09:41

Dates et versions

hal-00080019 , version 1 (14-06-2006)

Identifiants

HAL Id : hal-00080019 , version 1
DOI : 10.1016/j.mee.2005.07.071

Citer

V. Rouessac, L. Favennec, B. Remiat, V. Jousseaume, G. Passemard, et al.. "Precursor chemistry for ULK CVD". Microelectronic Engineering, 2005, 82, pp.333-340. ⟨10.1016/j.mee.2005.07.071⟩. ⟨hal-00080019⟩

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