Article Dans Une Revue
Thin Solid Films
Année : 2006
Nathalie Bonneval : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00080017
Soumis le : mercredi 14 juin 2006-13:37:30
Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:12
Citer
N. Chemin, M. Klotz, V. Rouessac, A. Ayral, E. Barthel. "Mechanical properties of mesoporous silica thin films : effect on the surfactant removal processes". Thin Solid Films, 2006, 495, pp.210-213. ⟨10.1016/j.tsf.2005.08.260⟩. ⟨hal-00080017⟩
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