Self-asembly and crystallization behavior of mesoporous, crystalline HfO2 thin films : a model system for the generation of mesostructured transition-metal oxides - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Small journal Année : 2005

Self-asembly and crystallization behavior of mesoporous, crystalline HfO2 thin films : a model system for the generation of mesostructured transition-metal oxides

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Alban Politi  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00071261

Soumis le : mardi 23 mai 2006-15:01:54

Dernière modification le : vendredi 19 avril 2024-16:18:54

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Dates et versions

hal-00071261 , version 1 (23-05-2006)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00071261 , version 1

Citer

Torsten Brezesinski, Bernd Smarsly, Ken-Ichi Iimura, David Grosso, Cédric Boissière, et al.. Self-asembly and crystallization behavior of mesoporous, crystalline HfO2 thin films : a model system for the generation of mesostructured transition-metal oxides. Small journal, 2005, 8-9, pp.889-898. ⟨hal-00071261⟩

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