Electrochemical Deposition of a Luminescent Alkoxysilyl-Based Fluorenone Film Exhibiting Halide Sensitivity - Institut UTINAM - Univers, Temps-fréquence, Interfaces, Nanostructures, Atmosphère et environnement, Molécules (UMR 6213) Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue ECS Journal of Solid State Science and Technology Année : 2017
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Dates et versions

hal-02470366 , version 1 (07-02-2020)

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Citer

Imen Kharmachi, L. Dhouibi, Patrice Berçot, El Mustafa Rezrazi, Boris Lakard. Electrochemical Deposition of a Luminescent Alkoxysilyl-Based Fluorenone Film Exhibiting Halide Sensitivity. ECS Journal of Solid State Science and Technology, 2017, 53 (6), pp.1059-1069. ⟨10.1134/S2070205117060132⟩. ⟨hal-02470366⟩
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