Fabrication of thin ZnO films with wide-range tuned optical properties by reactive magnetron sputtering - laboratoire Lasers, Plasmas et Procédés Photoniques Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Semiconductor Science and Technology Année : 2018

Fabrication of thin ZnO films with wide-range tuned optical properties by reactive magnetron sputtering

A Davydova
  • Fonction : Auteur
D Dilone
  • Fonction : Auteur
K. V. Rao
  • Fonction : Auteur
L. M. Belova
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02138355 , version 1 (23-05-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02138355 , version 1

Citer

A Davydova, Gleb Tselikov, D Dilone, K. V. Rao, Andrei V Kabashin, et al.. Fabrication of thin ZnO films with wide-range tuned optical properties by reactive magnetron sputtering. Semiconductor Science and Technology, 2018. ⟨hal-02138355⟩

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CNRS UNIV-AMU LP3
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