Article Dans Une Revue
Journal of Vacuum Science and Technology
Année : 2014
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00904425
Soumis le : jeudi 14 novembre 2013-14:43:31
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-20:52:15
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00904425 , version 1
Citer
P. Brichon, E. Despiau-Pujo, O. Joubert. MD simulations of low energy Clx+ ions interaction with ultrathin silicon layers for advanced etch processes. Journal of Vacuum Science and Technology, 2014, A32, pp.021301. ⟨hal-00904425⟩
59
Consultations
0
Téléchargements