Bias voltage waveform influence on the ion energy distribution and its consequence on the properties of a-C:H films obtained from C2H2 plasma - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2001

Bias voltage waveform influence on the ion energy distribution and its consequence on the properties of a-C:H films obtained from C2H2 plasma

F. Thièry
  • Fonction : Auteur
Y. Arnal
  • Fonction : Auteur
Y. Pauleau
  • Fonction : Auteur
J. Pelletier
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00669574 , version 1 (13-02-2012)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00669574 , version 1

Citer

Corentin Vallée, F. Thièry, Y. Arnal, Y. Pauleau, J. Pelletier. Bias voltage waveform influence on the ion energy distribution and its consequence on the properties of a-C:H films obtained from C2H2 plasma. CIP 2001, Jun 2001, Antibes, France. ⟨hal-00669574⟩
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