Time dependent resistance switching in HfO2 probed under a constant voltage stress mode - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2012
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00669537 , version 1 (13-02-2012)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00669537 , version 1

Citer

C. Mannequin, P. Gonon, Corentin Vallée, A. Salaün, V. Jousseaume, et al.. Time dependent resistance switching in HfO2 probed under a constant voltage stress mode. 2012 MRS Spring Meeting, Apr 2012, San Francisco, United States. ⟨hal-00669537⟩
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