Plasma treatments of HfO2 resistive RAM - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2010
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00625215 , version 1 (21-09-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00625215 , version 1

Citer

C. Vallee, P. Gonon, C. Mannequin, T. Chevolleau, H. Grampeix, et al.. Plasma treatments of HfO2 resistive RAM. 57h National Symposium AVS, 2010, Albuquerque (USA), United States. ⟨hal-00625215⟩
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