Wideband frequency and in-situ characterization of ultra thin ZrO2 and HfO2 films for integrated MIM capacitors - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2009

Wideband frequency and in-situ characterization of ultra thin ZrO2 and HfO2 films for integrated MIM capacitors

C. Bermond
T. Lacrevaz
Y. Morand
  • Fonction : Auteur
B. Fléchet
A. Farcy
  • Fonction : Auteur
M. Gros-Jean
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00461102 , version 1 (03-03-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00461102 , version 1

Citer

T. Bertaud, C. Bermond, T. Lacrevaz, Corentin Vallée, Y. Morand, et al.. Wideband frequency and in-situ characterization of ultra thin ZrO2 and HfO2 films for integrated MIM capacitors. MAM2009 (Grenoble), 2009, grenoble, France. ⟨hal-00461102⟩
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