Amorphous barium titanate films deposited by RF magnetron sputtering: influence of the oxygen/argon mixing ratio on the electrical properties - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2006

Amorphous barium titanate films deposited by RF magnetron sputtering: influence of the oxygen/argon mixing ratio on the electrical properties

Fadhel El Kamel
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00394704 , version 1 (12-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00394704 , version 1

Citer

Fadhel El Kamel, Patrice Gonon. Amorphous barium titanate films deposited by RF magnetron sputtering: influence of the oxygen/argon mixing ratio on the electrical properties. Electroceramics X, 2006, Tolede, Spain. ⟨hal-00394704⟩
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