High sensitive and etch-resistant material for UV-nanoimprint - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2006

High sensitive and etch-resistant material for UV-nanoimprint

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00394552 , version 1 (12-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00394552 , version 1

Citer

P. Voisin, M. Zelsmann, R. Cluzel, E. Pargon, C. Gourgon, et al.. High sensitive and etch-resistant material for UV-nanoimprint. Micro- and Nano-Engineering conference- MNE 2006, 2006, barcelone, Spain. ⟨hal-00394552⟩
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