A systematic investigation of work function in advanced metal gate HfO2/SiO2 structures with bevel oxide - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Solid-State Electronics Année : 2007

A systematic investigation of work function in advanced metal gate HfO2/SiO2 structures with bevel oxide

A. Kuriyama
  • Fonction : Auteur
J. Mitard
  • Fonction : Auteur
O. Faynot
  • Fonction : Auteur
L. Brevard
  • Fonction : Auteur
L. Clerc
  • Fonction : Auteur
A. Tozzo
  • Fonction : Auteur
V. Vidal
  • Fonction : Auteur
S. Deleonibus
  • Fonction : Auteur
H. Iwai
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00393685 , version 1 (09-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00393685 , version 1

Citer

A. Kuriyama, J. Mitard, O. Faynot, L. Brevard, L. Clerc, et al.. A systematic investigation of work function in advanced metal gate HfO2/SiO2 structures with bevel oxide. Solid-State Electronics, 2007, 51 (11-12), pp.1515-1522. ⟨hal-00393685⟩
45 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More