Article Dans Une Revue
Solid-State Electronics
Année : 2007
Chahla Domenget : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00393685
Soumis le : mardi 9 juin 2009-16:20:47
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:40:35
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00393685 , version 1
Citer
A. Kuriyama, J. Mitard, O. Faynot, L. Brevard, L. Clerc, et al.. A systematic investigation of work function in advanced metal gate HfO2/SiO2 structures with bevel oxide. Solid-State Electronics, 2007, 51 (11-12), pp.1515-1522. ⟨hal-00393685⟩
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