Characterization of Silicon-On-Insulator films with pseudo metal-oxide-semiconductor field-effect transistor: correlation between contact pressure, crater morphology and series resistance. - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Applied Physics Letters Année : 2008

Characterization of Silicon-On-Insulator films with pseudo metal-oxide-semiconductor field-effect transistor: correlation between contact pressure, crater morphology and series resistance.

I. Savin
  • Fonction : Auteur
I. Ionica
W. van den Daele
  • Fonction : Auteur
T. Nguyen
  • Fonction : Auteur
X. Mescot
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00391712 , version 1 (04-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00391712 , version 1

Citer

I. Savin, I. Ionica, W. van den Daele, T. Nguyen, X. Mescot, et al.. Characterization of Silicon-On-Insulator films with pseudo metal-oxide-semiconductor field-effect transistor: correlation between contact pressure, crater morphology and series resistance.. Applied Physics Letters, 2008, XX (XX, XX183511), pp.1-3. ⟨hal-00391712⟩
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