Metal-Insulator-Metal capacitors using Y2O3 dielectric grown by pulsed-injection plasma enhanced metalorganic chemical vapor deposition - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Vacuum Science & Technology A Année : 2004

Metal-Insulator-Metal capacitors using Y2O3 dielectric grown by pulsed-injection plasma enhanced metalorganic chemical vapor deposition

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00135475 , version 1 (07-03-2007)

Identifiants

Citer

C. Durand, Corentin Vallée, V. Loup, O. Salicio, C. Dubourdieu, et al.. Metal-Insulator-Metal capacitors using Y2O3 dielectric grown by pulsed-injection plasma enhanced metalorganic chemical vapor deposition. Journal of Vacuum Science & Technology A, 2004, 22(3), pp.655. ⟨10.1116/1.1722633⟩. ⟨hal-00135475⟩
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