Article Dans Une Revue
Journal of Vacuum Science & Technology A
Année : 2004
Catherine Dubourdieu : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00135411
Soumis le : mercredi 7 mars 2007-16:20:29
Dernière modification le : lundi 29 janvier 2024-11:34:30
Citer
C. Durand, Corentin Vallée, C. Dubourdieu, E. Gautier, M. Bonvalot, et al.. Interface formation during the yttrium oxide deposition on Si by pulsed liquid-injection plasma enhanced metal organic chemical vapor deposition. Journal of Vacuum Science & Technology A, 2004, 22(6), pp.2490-2499. ⟨10.1116/1.1810163⟩. ⟨hal-00135411⟩
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