Manufacturing of 4-quadrant phase mask for nulling interferometry in thermal infrared
F. Lemarquis
(1)
,
M. Lequime
(1)
,
G. Albrand
(1)
,
Ludovic Escoubas
(1)
,
J. Simon
(1)
,
J. Baudrand
(2)
,
P. Riaud
(2)
,
D. Rouan
(2)
,
A. Bocaletti
(2)
,
D. Mawet
(2)